真空電鍍是在充滿空氣或惰性氣體的真空室內中運行氣相塗布的技術。真空電鍍有多項製程特點，如無污染，無氫脆，適用於各種基材以及相對簡單的工藝。

在過去的幾十年中，電子設備正朝著小型化，高可靠性和超集成化方向發展。必須製備各種特殊的功能性塗層以促進物理氣相沉積。化學氣相沉積（稱為CVD，也稱為氣相電鍍）的迅速發展和廣泛應用。

真空鍍層衍射好，塗層厚度均勻；塗層緻密，針孔氣泡少；電鍍前處理容易，工藝簡單；使用的材料無污染。它可用於在金屬或非金屬表面上電鍍元素，合金或化合物。它已廣泛用於機械，航空航天，航空航天，電子，輕工業和光學等工業領域。各種塗層，例如光學，裝飾，潤滑，壓電和超導。

目前，隨著真空鍍膜設備的不斷改進，大規模連續化，再加上塗覆技術的發展，可以獲得具有良好的粘結強度，較強的耐磨性和高亮度的裝飾膜層。真空電鍍已進入工業生產階段。